檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "Kuei-Yi Lee".ecommittee (精準) and ckeyword.raw="氧化銦錫"
個人化服務 :
排序:
每頁筆數:
已勾選0筆資料
1
摘要 本實驗使用反應式離子束濺鍍法來沉積氧化銦錫薄膜於玻璃基板上,在室溫狀態下,分別透過改變氧氣流量、陽極電壓以及基板與靶材距離,來觀察不同製程參數下薄膜特性的變化。隨著氧氣流量增加,氧氣的低濺…
2
本實驗使用離子束濺鍍法在玻璃基板上沉積氧化銦錫薄膜,利用改變基板溫 度及退火溫度來觀察薄膜特性的變化,分別使用室溫、100 及200℃來沉積薄膜。 在室溫下沉積未退火的ITO 薄膜呈現非晶結構,當薄…